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個產品,

對待每一

做到極致認真

每一個零件

每一組數據

  • 智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)
  • 潔凈烘箱,百級無塵烘箱
  • 氮氣烘箱,精密充氮烘箱
  • LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮氣烘箱
  • 熱風循環真空烘箱,高溫熱風真空烤箱
  • HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
  • 智能型無塵無氧烘箱(PI烤箱)
  • 真空無氧固化爐,高溫無氧烘箱
  • 精密烤膠臺,高精度烘膠機
  • 超低溫試驗箱,零下-120度高低溫箱
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氮氣烘箱在半導體制程如何選擇
來源: | 作者:雋思環境半導體設備部 | 發布時間: 2023-10-26 | 824 次瀏覽 | 分享到:

氮氣烘箱在半導體制程如何選擇?

每個半導體產品的制造都需要數百個工藝,整個制造過程分為八個步驟:晶圓加工-氧化-光刻-刻蝕-薄膜沉積-互連-測試-封裝。

然而在這數百個工藝中有數道需要烘烤工藝,而且每個烘烤工藝不是完全相同,所以需要的烘烤設備也有差異。

精密氮氣烘箱可用于一以下工藝:

RGBT烘烤,PCB板防氧化烘烤,光刻膠固化,硅片高溫退火,墨點烘烤,外延片烘烤,LED、治具烘烤等干燥或固化工藝;

潔凈氮氣烘箱一般用于

光刻膠預烘烤(軟烘),堅膜烘箱(硬烘)等工藝烘烤

高溫無氧烘箱主要用途

高溫無氧烘箱有真空無氧固化爐和熱風無塵無氧烘箱

BCB/PI/CPI/LCP/PBO等固化工藝

HMDS烘箱

用于將基底由親水性改變為疏水性,從而增強基底的粘附性,

適用于MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

、、、、、

氮氣烘箱技術性能

無塵等級:Class 100; 選配    
溫度范圍:RT+15-200/300/400/500℃;
升溫速率:8℃/min;

降溫方式:自然降溫或輔助降溫
內腔材質:SUS304/316L#鏡面不銹鋼;
外箱材質:冷軋板噴塑或不銹鋼;
真空度:可達10Pa(真空無氧烘箱、HMDS烘箱)

氧濃度:可達10ppm(無氧烘箱)
氮氣裝置:可調式浮子流量計+減壓閥


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