就
是
對
待
工
作
的
態
度
，
個產品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數據
-
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級無塵烘箱
-
氮氣烘箱，精密充氮烘箱
-
LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
-
熱風循環真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
-
HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
-
智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
-
真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
-
精密烤膠臺，高精度烘膠機
-
超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
最新消息
熱搜：HMDS烘箱 無塵烤箱 無氧烤箱
新 聞 動 態
NEWS
高溫無氧烘箱在濕敏薄膜制作工藝的應用
來源:
|
作者:雋思半導體設備部
|
發布時間: 2022-05-28
|
1038 次瀏覽
|
分享到:
高溫無氧烘箱在濕敏薄膜制作工藝的應用
在聚酰亞胺（polymide, PI）柔性襯底上制作濕度傳感器，PI是常見的柔性傳感器基底材料，具有化學性質穩定、耐高溫、與電極材料結合力好的優點。加工方法為將基底溶液聚酰胺酸懸涂在制備有犧牲層的載體硅片上，采用MEMS工藝制作濕度敏感單元，本文制作的濕度傳感器采用“三明治”結構，包括上電極、感濕層和下電極，上下電極均采用蒸鍍工藝，蒸鍍金作為電極；感濕膜為聚酰亞胺材料，采用旋涂的方法制備感濕層。
濕敏薄膜制作：將合成的聚酰亞胺前軀體聚酰胺酸旋涂在基底上，放入高溫無氧烘箱中，100℃保溫30min，以5℃/min的升溫速度升至150-180℃，保溫30min；再以5℃/min的升溫速度升至220-250℃保溫30min，再以5℃/min的升溫速度升至280-300℃保溫1 h最后升至350-380℃保溫1 h，再以3-8℃/min的降溫速度降至50-100℃完成聚酰亞胺濕敏材料的固化，濕敏膜厚度2μm.
工作室尺寸:W500mm×500mm×H500mm.可定制
溫度范圍：RT+50～450℃
分辨率：0.1℃
波動度：≤±1℃
溫度均勻度：≤±1.5%℃
潔凈度：Class100/class1000
升溫速率：1～10℃/min
降溫速率：高溫降溫至80度平均約4.0℃/min
氧含量：≤20ppm
操作方式：人機界面+PLC，程式工藝一鍵運行，可保存多個工藝
